Plaquettes semi-conductrices composées III-V | Power Wafertech

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Plaquettes épitaxiales semi-conductrices III-V

Plaquette épitaxiale semi-conductrice III-V

PWG propose des solutions épitaxiales basées sur des substrats InP, GaSb et GaAs, couvrant les hétérostructures pour les HEMT, pHEMT, HBT, diodes laser, photodétecteurs, VCSEL, détecteurs infrarouges et autres dispositifs III-V.
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Plaquettes composées III-V

Plaquette InSb

Avec un gap de bande directe ultra-étroit d’environ 0,17 eV à 300 K et une mobilité électronique exceptionnellement élevée, InSb est particulièrement adapté à la détection infrarouge à moyenne longueur d’onde (MWIR) dans la plage de 3 à 5 μm. PWG fournit des plaquettes d’antimonide d’indium (InSb) de type N et P pour la détection infrarouge à haute sensibilité, la détection magnétique et l’électronique cryogénique.
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Plaquettes composées III-V

Plaquette InP

Le phosphure d’indium (InP) est un semi-conducteur composé III-V avec une bande interdite directe (1,34 eV à 300 K) et une mobilité électronique supérieure à celle du GaAs. Il offre des performances supérieures dans trois domaines clés : la RF haute fréquence (jusqu’à la plage THz), l’optoélectronique à longue longueur d’onde (1,3–1,55μm) et les circuits intégrés photoniques à faible bruit de phase.
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Plaquettes composées III-V

Plaquette InAs

Avec une bande passante directe étroite d’environ 0,354 eV à 300 K et une mobilité électronique exceptionnellement élevée, les InA conviennent parfaitement aux détecteurs infrarouges, capteurs Hall, transistors à haute vitesse et autres dispositifs à haute mobilité.
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Plaquettes composées III-V

Plaquette GaSb

Avec une constante de réseau d’environ 6,096 Å, GaSb (antimonide de gallium) offre une excellente compatibilité de réseau avec des matériaux à base d’antimonide tels que InAs, AlSb et InAsSb, ce qui en fait une plateforme substrataire importante pour les détecteurs infrarouges super-réseau de type II (T2SL), les lasers mid-IR et les dispositifs optoélectroniques avancés. Les plaquettes GaSb sont disponibles en plusieurs diamètres, orientations cristallines et finitions de surface pour la croissance épitaxiale et la fabrication des dispositifs.
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Plaquettes composées III-V

Gaufrette GaAs

L’arséniure de gallium (GaAs) combine une bande interdite directe avec une grande mobilité électronique, ce qui en fait un matériau substrat largement utilisé pour les MMIC, HEMT, HBT, VCSEL, diodes laser, LED et cellules solaires à haute efficacité. Les plaquettes GaAs existent en plusieurs diamètres, orientations cristallines et finitions de surface.
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TROIS FAMILLES DE PRODUITS DE BASE

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APPLICATIONS & INDUSTRIES

Applications et industries

CAS 01 / SYSTÈMES HAUTE TENSION

Électronique de puissance

Solutions de plaquettes à large bande interdite pour une conversion efficace de la puissance, une commutation rapide et un fonctionnement fiable à haute température.

FOCUS SUR L’APPLICATION

Traction EV · Charge rapide · Énergie industrielle

PRODUITS RECOMMANDÉS

Substrat 4H-SiC Épitaxie GaN SiC personnalisé

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Paramètres au-delà de la liste standard

Diamètre et épaisseur personnalisés
Orientation et découpage
Dopage et résistivité
Films minces et empilements de couches
Profil de surface et d’arêtes
Marquage et emballage
01Exigences de soumission
02Revue technique
03Alignement des spécifications
04Estimation et délai d’exécution
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