Électronique de puissance GaN
Les modèles AlN-on-silicon peuvent être utilisés comme plateforme tampon pour les dispositifs d’alimentation GaN-on-Si, y compris les HEMT GaN et les dispositifs de commutation à haute efficacité.
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* Spécifications typiques ; Les valeurs réelles peuvent varier selon la taille de la plaquette, le substrat et les conditions de croissance.
Les modèles AlN-on-silicon peuvent être utilisés comme plateforme tampon pour les dispositifs d’alimentation GaN-on-Si, y compris les HEMT GaN et les dispositifs de commutation à haute efficacité.
Les gabarits AlN-on-silicium peuvent également prendre en charge certaines structures de dispositifs GaN RF et haute fréquence, selon la conception épitaxiale globale. Les applications typiques incluent :
Les modèles fournissent une interface AlN contrôlée pour la croissance épitaxiale ultérieure de GaN / AlGaN, les rendant adaptés à la recherche et au développement de structures GaN HEMT.
Réponses rapides sur la sélection des matériaux, la personnalisation, les tests et la commande.
L’épaisseur typique de l’AlN varie de 50 nm à 1 μm, et peut être personnalisée selon l’architecture épitaxiale du GaN.
Oui. De petites quantités et des spécifications personnalisées peuvent être discutées pour la recherche et les projets de prototypes.
Veuillez indiquer le diamètre de la plaquette, l’orientation du silicium, l’épaisseur de l’AlN, la quantité et l’application cible. Nous pourrons alors recommander une spécification et un devis appropriés.
Enquête technique
Partagez votre matériau, dimensions, spécifications, stade d’application ou de projet. Notre équipe examinera vos besoins et répondra dans un délai d’un jour ouvré.
Réponse menée par l’ingénierie
Les demandes d’information sont transmises à l’équipe technique ou commerciale appropriée.
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N° 1389, route Lianmei, zone industrielle de Lianhua, Tong’an, Xiamen, Fujian 361100, Chine
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