AlN sur gabarit en silicium — Tampon Si de 4/6/8 pouces | PWG

Modèle AlN

AlN sur le gabarit en silicium

AlN sur des modèles en silicium fournit une interface et une plateforme tampon de haute qualité pour l’épitaxie GaN ultérieure, soutenant le développement de dispositifs d’alimentation GaN et RF haute performance.
  • Substrat Silicium (100) ou (111)
  • Taille 4 », 6 », 8 », personnalisable
  • Épaisseur de l’épi 50nm~1μm
  • Finis de surface Epi-Ready
  • XRD FWHM (0002) Arc sec typique ≤1050
  • Spécification personnalisée acceptable
  • Package Cassette à wafer unique, scellée sous vide
Spécifications détaillées

Spécifications publiées par diamètre de plaquette.

Select a diameter to review the corresponding published specification set.

ParamètreAlN sur le gabarit en silicium
SubstratSilicium
Orientation du substrat(111) / (100)
Taille4 », 6 », 8 » et personnalisé
Épaisseur du film AlN50 nm–1μm, personnalisable
XRD FWHM (0002)≤1050 arcsec*
Ruguosité de surfaceRa
SurfaceÉpi-ready
Fonction principaleTampon / modèle AlN pour l’épitaxie GaN-on-Si

* Spécifications typiques ; Les valeurs réelles peuvent varier selon la taille de la plaquette, le substrat et les conditions de croissance.

Applications

Où cette plaquette apporte de la valeur

01

Électronique de puissance GaN

Les modèles AlN-on-silicon peuvent être utilisés comme plateforme tampon pour les dispositifs d’alimentation GaN-on-Si, y compris les HEMT GaN et les dispositifs de commutation à haute efficacité.

02

Dispositifs RF GaN

Les gabarits AlN-on-silicium peuvent également prendre en charge certaines structures de dispositifs GaN RF et haute fréquence, selon la conception épitaxiale globale. Les applications typiques incluent :

03

Épitaxie GaN HEMT

Les modèles fournissent une interface AlN contrôlée pour la croissance épitaxiale ultérieure de GaN / AlGaN, les rendant adaptés à la recherche et au développement de structures GaN HEMT.

FAQ

Questions fréquentes sur ce produit

Réponses rapides sur la sélection des matériaux, la personnalisation, les tests et la commande.

L’épaisseur typique de l’AlN varie de 50 nm à 1 μm, et peut être personnalisée selon l’architecture épitaxiale du GaN.

Oui. De petites quantités et des spécifications personnalisées peuvent être discutées pour la recherche et les projets de prototypes.

Veuillez indiquer le diamètre de la plaquette, l’orientation du silicium, l’épaisseur de l’AlN, la quantité et l’application cible. Nous pourrons alors recommander une spécification et un devis appropriés.

Enquête technique

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Partagez votre matériau, dimensions, spécifications, stade d’application ou de projet. Notre équipe examinera vos besoins et répondra dans un délai d’un jour ouvré.

Réponse menée par l’ingénierie

Les demandes d’information sont transmises à l’équipe technique ou commerciale appropriée.

Adresse

N° 1389, route Lianmei, zone industrielle de Lianhua, Tong’an, Xiamen, Fujian 361100, Chine

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