AlN sur gabarit Sapphire — C-Plane, 2–6 pouces, Epi-Ready | PWG

Modèle AlN

AlN sur le modèle Sapphire

Les gabarits AlN à base de saphir sont disponibles en plusieurs tailles de plaquettes et avec des épaisseurs et orientations personnalisables en AlN, les modèles AlN-on-saphir de haute qualité cristalline et faible densité de défauts conviennent aussi bien à la R&D qu’au développement de dispositifs.
  • Substrat C-plane Sapphire (autres orientations disponibles)
  • Taille 2 », 4 », 6 », personnalisable
  • Épaisseur de l’épi 0,5~5μm
  • Finis de surface Epi-Ready
  • XRD FWHM (0002) Arcsec typique <500
  • Spécification personnalisée acceptable
  • Package Cassette à wafer unique, scellée sous vide
Spécifications détaillées

Spécifications publiées par diamètre de plaquette.

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ParamètreAlN sur le modèle Sapphire
Matériau substratSaphir (Al₂O₃)
Orientation du substratla norme C-plane ; Autres orientations disponibles
Taille2 », 4 », 6 » et personnalisé
Épaisseur du film AlN0,5–5μm (optimisable par application)
Rugosité de surface (AFM)Ra
XRD FWHM (0002)Typiquement
Applications

Où cette plaquette apporte de la valeur

01

LED UV profond

Les gabarits AlN sur saphir sont largement utilisés comme plateforme de départ pour les LED UVC à base d’AlGaN, en particulier pour l’émission UV dans la plage d’environ 200 à 280 nm.

02

UV Laser Diodes

Adapté comme modèle épitaxial pour le développement de structures de diodes laser UV à base d’AlGaN et d’autres dispositifs optoélectroniques à courte longueur d’onde.

03

AlGaN / Épitaxie AlN

Utilisé comme modèle pour la croissance ultérieure d’AlGaN, AlN et des structures épitaxiales à large bande interdite apparentées pour la recherche et le développement de dispositifs.

04

Dispositifs basés sur GaN

L’AlN-sur-saphir peut également être utilisé comme plateforme de nucléation ou de tampon conçue pour certaines structures électroniques et RF basées sur le GaN, selon la conception épitaxiale cible.

FAQ

Questions fréquentes sur ce produit

Réponses rapides sur la sélection des matériaux, la personnalisation, les tests et la commande.

L’épaisseur typique du film d’AlN varie de 0,5 μm à 5 μm. L’épaisseur peut être personnalisée en fonction de la structure épitaxiale cible.

Oui. Les gabarits sont fournis avec une surface lisse et épi-ready, adaptée aux couches épitaxiales ultérieures d’AlGaN, d’AlN et associées.

Oui. Nos modèles AlN-on-sapphire peuvent servir de plateforme de départ pour des LED UVC à base d’AlGaN et d’autres structures de dispositifs DUV.

Oui. De petites quantités et des spécifications personnalisées peuvent être discutées pour la recherche et le développement de prototypes.

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Réponse menée par l’ingénierie

Les demandes d’information sont transmises à l’équipe technique ou commerciale appropriée.

Adresse

N° 1389, route Lianmei, zone industrielle de Lianhua, Tong’an, Xiamen, Fujian 361100, Chine

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