LED UV profond
Les gabarits AlN sur saphir sont largement utilisés comme plateforme de départ pour les LED UVC à base d’AlGaN, en particulier pour l’émission UV dans la plage d’environ 200 à 280 nm.
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Les gabarits AlN sur saphir sont largement utilisés comme plateforme de départ pour les LED UVC à base d’AlGaN, en particulier pour l’émission UV dans la plage d’environ 200 à 280 nm.
Adapté comme modèle épitaxial pour le développement de structures de diodes laser UV à base d’AlGaN et d’autres dispositifs optoélectroniques à courte longueur d’onde.
Utilisé comme modèle pour la croissance ultérieure d’AlGaN, AlN et des structures épitaxiales à large bande interdite apparentées pour la recherche et le développement de dispositifs.
L’AlN-sur-saphir peut également être utilisé comme plateforme de nucléation ou de tampon conçue pour certaines structures électroniques et RF basées sur le GaN, selon la conception épitaxiale cible.
Réponses rapides sur la sélection des matériaux, la personnalisation, les tests et la commande.
L’épaisseur typique du film d’AlN varie de 0,5 μm à 5 μm. L’épaisseur peut être personnalisée en fonction de la structure épitaxiale cible.
Oui. Les gabarits sont fournis avec une surface lisse et épi-ready, adaptée aux couches épitaxiales ultérieures d’AlGaN, d’AlN et associées.
Oui. Nos modèles AlN-on-sapphire peuvent servir de plateforme de départ pour des LED UVC à base d’AlGaN et d’autres structures de dispositifs DUV.
Oui. De petites quantités et des spécifications personnalisées peuvent être discutées pour la recherche et le développement de prototypes.
Enquête technique
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Réponse menée par l’ingénierie
Les demandes d’information sont transmises à l’équipe technique ou commerciale appropriée.
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N° 1389, route Lianmei, zone industrielle de Lianhua, Tong’an, Xiamen, Fujian 361100, Chine
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